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Máquina de limpieza de obleas para silicona de 4-12 pulgadas

    Tipo de Pago: L/C,T/T
    Incoterm: FOB
    Plazo de entrega: 20 días

Información adicional

Paquete: Caja de carton

transporte: Ocean,Land,Air

Lugar de origen: China

Capacidad de suministro: Strong

DDescripción

máquina de limpieza de obleas para la limpieza de precisión de obleas de silicona de 4-12 pulgadas


Introducción del equipo:
A través del manipulador multieje de alta precisión, el producto se saca del cargador y se coloca en la cámara de limpieza con alta limpieza. Mediante la doble cooperación de dos pulverizaciones de fluido hacia arriba y hacia abajo y la deshidratación centrífuga de alta velocidad, se completa el proceso de limpieza del polvo en la superficie del producto.

Industria y aplicación de equipos:
Es aplicable al proceso de limpieza de polvo de superficie de chip, vidrio óptico LENS, VCM, LENS e IR en el proceso del módulo de cámara CCM.

Ventajas del equipo:
1.Alta eficiencia, UPH≥68 placas / hora
UPH≥102 platos / hora
2.Alto rendimiento, rendimiento ≥ 99,3%
3.Compatibilidad, compatible con una variedad de operadores
4.Alta cuota de mercado en el mercado nacional, la estabilidad y la eficiencia del equipo ha sido reconocida por los clientes, ocupando el primer lugar en la cuota de mercado


Descripción del producto


Applicable stencil size 700mm(L)×650mm(W)×1100mm(H)
Cleaning plate specification 4-12 inches (optional)
Pure water inlet path Ø8mm outer diameter pure water hose
Drainage exit path 3/4′′ hose
Gas source inlet diameter Ø12mm PU air pipe
Air outlet 2.5′′ leather pipe joint (75mm outer diameter)
power supply AC220V; 50HZ; 5A
Air filtration One-stage 0.01μm degreasing filter; two-stage 0.01μm precision filter
Environmental filtering 0.3μm; 99.99%
Machine net weight About 200KG

Wafer Cleaning Machine





PRODUCTOS POR GRUPO : Máquina de limpieza SMT > Máquina limpiadora fotoeléctrica óptica

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